- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 7/42 - Elimination des réserves ou agents à cet effet
Détention brevets de la classe G03F 7/42
Brevets de cette classe: 973
Historique des publications depuis 10 ans
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2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
Proprétaire |
Total
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Cette classe
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Tokyo Electron Limited | 11599 |
56 |
FUJIFILM Corporation | 27102 |
46 |
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
37 |
Anji Microelectronics (Shanghai) Co., Ltd. | 169 |
34 |
Versum Materials US, LLC | 591 |
32 |
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 1481 |
31 |
BASF SE | 19740 |
20 |
Screen Holdings Co., Ltd. | 2431 |
20 |
Entegris, Inc. | 1736 |
18 |
Lam Research Corporation | 4775 |
17 |
Merck Patent GmbH | 5909 |
16 |
Applied Materials, Inc. | 16587 |
16 |
Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 27812 |
16 |
LG Chem, Ltd. | 17205 |
15 |
Dow Global Technologies LLC | 10147 |
14 |
Boe Technology Group Co., Ltd. | 35384 |
14 |
Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 3188 |
13 |
Nissan Chemical Corporation | 1725 |
12 |
Advanced Technology Materials, Inc. | 234 |
11 |
FUJIFILM Electronic Materials U.S.A., Inc. | 270 |
11 |
Autres propriétaires | 524 |